形成薄膜的初期一般認(rèn)為有三類,即島狀生長,層狀生長及層狀-島狀生長。其形態(tài)及過程受基板表面的性質(zhì),溫度及蒸鍍速度等因素的影響。其中與基板表面的清潔度關(guān)系很大。玻璃瓶生產(chǎn)廠家由于知道蒸鍍原子或分子與基板原子間作用強(qiáng)弱有關(guān),若這時玻璃瓶廠把蒸鍍原子之間互相作用力強(qiáng)時形成島狀生長,若時測為層狀生長。
蒸鍍的設(shè)備,除了蒸鍍用真空罐外,還需要真空排氣系統(tǒng),我們徐州玻璃瓶廠一般的蒸鍍需10-3-10-4pa的真空度,蒸鍍半導(dǎo)體膜時需10-6-10-8pa的超真空度。應(yīng)對應(yīng)選擇適應(yīng)的真空度要求及排氣量的真空泵及附屬設(shè)備,這時玻璃瓶廠若選用擴(kuò)散泵應(yīng)注意油倒流造成的基板污染。玻璃瓶生產(chǎn)廠家的蒸鍍中對應(yīng)蒸發(fā)物質(zhì)及量的不同,所使用蒸發(fā)源種類形式也不同,所需溫度可以依據(jù)平衡蒸汽壓所對應(yīng)溫度加以選擇,徐州玻璃瓶廠用蒸發(fā)源加熱方式可以采用通電加熱,電子搶沖擊,激光照射等加熱方式。
對基板的加熱可以使表面潔凈化,引起外誕生長及化合物反應(yīng),因而應(yīng)對基板加熱。徐州玻璃瓶廠通常對基板的加熱采用基板背面設(shè)加熱器或加熱用燈,但基板溫度難以測試,雖設(shè)熱電偶但反應(yīng)出的卻卻未必是基板表面的溫度。
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